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高真空多靶磁控溅射镀膜系统
发布时间:2022-10-15 浏览次数:
基本信息:
申购单号:
CB111172022001676
签约时间:
发布竞价结果后3天内签约合同
申购主题:
高真空多靶磁控溅射镀膜系统
送货时间:
合同签订后45天内送达
采购单位:
扬州大学
安装要求:
免费上门安装(含材料费)
报价要求:
国产含税
收货地址:
江苏省/扬州市/邗江区/华扬西路196号扬州大学扬子****
发票类型:
我要报价
币种:
人民币
预算:
******
付款方式:
到货后付除去AE电源费用的80%,验收合格后付除去AE电源费用的15%,AE电源到货验收合格后付尾款
备注说明:
结算方式为货到验收合格后,凭发票报销直接付款至供应商方账户,江苏省省级政府采购网上商城中标除外。生化试剂报价单位请在附件中附上代理资格证明,有过良好合作的供应商优先选择。进口设备采用人民币总报价的方式,包含设备至用户指定地点的所有费用。
申购明细:
序号
采购内容
数量
预算单价
1
高真空多靶磁控溅射镀膜系统
1套
品牌
北京泰科诺高真空磁控溅射设备
型号
JCP500
规格参数
1. 溅射模式包括:直流溅射、射频溅射、直流及射频反应溅射、单靶溅射、多靶共溅射。溅射不均匀性≤±5%(Φ75mm尺寸范围内) 2. 溅射材料:各种金属、合金薄膜、非金属薄膜、化合物等薄膜、粉末材料等。 3. 真空室:Ф500×H420mm圆柱腔体;观察窗φ80mm,含磁力挡板;304不锈钢材质,顶板焊水线。 4. 真空极限:≦5×10-5 Pa。真空抽速:15分钟内< ="10-3Pa" 5. 基片台:φ150mm 材质不锈钢,基片台气动挡板;转速0~30rpm,且连续可调,带可放置永磁铁的样品托;最高加热温度不低于500 ℃,且连续可调,误差±1°c,日本岛电pid可编程智能温度控制仪,可以设定分段升温速率、保持温度、保持时间。并通过热电偶的反馈信号及加热电源调功调压控制,实现加热温度自动控制;预留腔室环境加热接口。 6. 磁控溅射靶:配置φ75mm标准磁场磁控溅射靶3只,(永磁靶两支、强磁靶一支)。基片中心溅射角度可调,靶与基片距离可调,靶基距调整范围80~110mm,方便调整掌握最佳镀膜距离。 可溅射磁性材料,磁性材料厚度2㎜,非磁性材料厚度5㎜。 7. 基片台具有偏压清洗功能,最大偏压-1000v。 8. 磁控溅射电源:射频电源500w及自动匹配器1套(瑞思杰尔)、1000w直流脉冲电源2台(中山浩源)、直流脉冲偏压电源1台1000w(中山浩源),美国ae公司型号为cesar136、600w的射频电源1套。 9. 真空系统:采用“复合分子泵+直联旋片泵+高真空阀门”组合的高真空系统。分子泵选用kyky的ff-200,抽速速率 1300l/s;机械泵选用北仪优成,trp-36,抽速:9l/s。数显复合真空计(成都睿宝):两低一高,含规管测量范围从1×105pa到1×10-5pa 10. 工作气路系统:质量流量控制器:ar、n2、o2 3路;选用七星华创品牌。电磁截止阀:φ6mm ,七星华创品牌 11. 电气控制系统:电气控制系统采用plc+触摸屏控制,可实现自动一键式抽真空,镀膜电源采用手动控制,以方便用户进行镀膜工艺参数的摸索; ②控制内容:机械泵、前级阀的开与关;分子泵显示及开关控制;真空计参数显示及控制;基片台转速控制等; ③安全保护报警系统:在缺水、水压过低情况下的报警系统; 完善的逻辑程序互锁保护系统。 12. 设备具备报警及自保护功能。 13. 配备水冷机和空气压缩机。
质保及售后服务
售后服务:①产品质保期为三年,②保期内设备的维修免费(人为损坏因素除外); ③质保期内由于设备本身原因而引起的零配件(易损件除外)的更换,其费用由公司承担; ④建立客户设备信息档案,随时跟踪设备运行及维护,保证设备正常运行; ⑤在接到用户要求本公司进行技术支持的正式通知(含电话或邮件通知)后,我公司技术人员于48小时内,赶到技术服务现场; ⑥对于质保期以外设备的维护,公司只收取成本费; ⑦所有配件、备件质保期外可长期按成本价及时提供。
附件
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